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上海微电子装备（SMEE）28nm 光刻机成功了吗？
#1 · 2025年3月5日, 上午3:11
是的，上海微电子装备（SMEE）已成功研制出中国首台28纳米光刻机。
这标志着中国在半导体制造关键设备领域取得了重要突破，缩小了与国际领先水平的差距。尽管28纳米制程技术已问世多年，但在智能手机和电动汽车等众多产品中，28纳米芯片仍然至关重要。因此，上海微电子的这一成果对于提升中国半导体产业的自主可控能力具有重要意义。
#2 · 2025年3月5日, 上午3:21
目前没有公开的官方信息确认上海微电子（SMEE）的28nm光刻机已经完成验收。虽然2023年底有报道称SMEE成功研制出28nm光刻机，但是否已经交付并投入量产仍需进一步确认。如果你想获取最新的官方进展，建议关注上海微电子的官方网站或相关行业新闻。